टाइटेनियम डाइबोराइड की तैयारी विधि

टाइटेनियम डाइबोराइड की बड़े पैमाने पर तैयारी के लिए विभिन्न सिंथेटिक मार्गों में से, इलेक्ट्रोकेमिकल संश्लेषण और ठोस चरण प्रतिक्रिया विकसित की गई है। ठोस प्रतिक्रिया का एक उदाहरण बोरॉन कार्बाइड का थर्मल रिडक्शन है, जिसे निम्नलिखित प्रतिक्रिया समीकरण [2] द्वारा दर्शाया जा सकता है:
2TiO2 + B4C + 3C → 2TiB2 + 4 CO
वाष्प जमाव विधि कच्चे माल के रूप में टाइटेनियम टेट्राक्लोराइड और बोरॉन ट्राइक्लोराइड का उपयोग करती है, और हाइड्रोजन की उपस्थिति में, जमाव तापमान 800-1000 डिग्री होता है, और अपघर्षक और इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड उत्पादों का उत्पादन किया जा सकता है [2]:
TiCl4 + 2BCl3 + 5H2 → TiB2 + 10HCl
इसके अलावा, उच्च तापमान पर बोरॉन और टाइटेनियम ठोस चरण की प्रत्यक्ष प्रतिक्रिया [1], सोडियम बोरोहाइड्राइड और टाइटेनियम टेट्राक्लोराइड की तरल चरण प्रतिक्रिया और विलायक थर्मल प्रतिक्रिया जैसी विधियाँ भी हैं।