टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य

टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य
विवरण:
टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य का बाजार दृष्टिकोण सकारात्मक दिखता है। इस सामग्री का उपयोग अर्धचालक, इलेक्ट्रॉनिक्स, प्रकाशिकी और एयरोस्पेस सहित विभिन्न क्षेत्रों में व्यापक रूप से किया जाता है, क्योंकि इसकी उच्च कठोरता, उच्च गलनांक, अच्छी चालकता और थर्मल स्थिरता जैसे उत्कृष्ट गुण हैं।
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तकनीकी पैरामीटर

 

 

विज्ञान और प्रौद्योगिकी के निरंतर विकास के साथ, इन क्षेत्रों की मांग भी बढ़ रही है, और टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य की मांग भी धीरे-धीरे बढ़ रही है। जिंगक्सी पोर्सिलेन न्यू मटेरियल टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेड जैसी कंपनियों ने उच्च गुणवत्ता वाली कोटिंग सामग्री विकसित करने और उत्पादन करने, मांग पर उत्पादों को अनुकूलित करने के लिए चीनी विज्ञान अकादमी के साथ सहयोग करके उत्पादों की तकनीकी सामग्री और नवाचार में सुधार किया है, और कई उद्यमों और वैज्ञानिक अनुसंधान संस्थानों की मान्यता जीती है, जिससे टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य बाजार के विकास को और बढ़ावा मिला है।

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विशेष विवरण:टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य की विभिन्न विशिष्टताएं प्रदान की गई हैं, जिनमें 1052010, 11075, 1102410, 1203510 आदि शामिल हैं, तथा प्रत्येक विशिष्टता की आयामी सहिष्णुता का भी विस्तृत विवरण दिया गया है।

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घनत्व:टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य की घनत्व सीमा 2.8 - 3.2 ग्राम/सेमी3 है।

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प्रतिरोधकता:प्रतिरोधकता की सीमा 200-2000 माइक्रोओम/सेमी है।

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उपयोग की शर्तें:ऑपरेटिंग करंट रेंज 40 900 एम्पियर है और ऑपरेटिंग वोल्टेज रेंज 5-15 वोल्ट है।

ये पैरामीटर संकेत देते हैं कि टाइटेनियम डाइबोराइड लक्ष्य वैक्यूम वाष्पीकरण प्रौद्योगिकी के लिए उपयुक्त है, विशेष रूप से पिघले हुए एल्यूमीनियम, जिंक सल्फाइड आदि के लिए एक कंटेनर के रूप में। इसकी उच्च शुद्धता स्पटरिंग कोटिंग जैसी प्रक्रियाओं में इसके प्रदर्शन को सुनिश्चित करती है।

 

 

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